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INIZIO_TESTO_DA_INDICIZZARE

PROGRAMMA DI RICERCA 2006

italiano - english
Unità di Ricerca
Programmi di ricerca simili:
Classificazione scientifico-disciplinare
Classificazione brevettuale
  • ELECTRICITY
    • BASIC ELECTRIC ELEMENTS
      • SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR (use of semiconductor devices for measuring G01; details of scanning-probe apparatus, in general G12B21/00; resistors in general H01C; magnets, inductors, transformers H01F; capacitors in general H01G; electrolytic devices H01G9/00; batteries, accumulators H01M; waveguides, resonators or lines of the waveguide type H01P; line connectors, current collectors H01R; stimulated emission devices H01S; electromechanical resonators H03H; loudspeakers, microphones, gramophone pick-ups or like acoustic electromechanical transducers H04R; electric light sources in general H05B; printed circuits, hybrid circuits, casings or constructional details of electric apparatus, manufacture of assemblages of electrical components H05K; use of semiconductor devices in circuits having a particular application, see the subclass for the application) [C0103]
  • PHYSICS
    • PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY (reproduction of pictures or patterns by scanning and converting into electrical signals H04N)
      • HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS (holograms, e.g. point holograms, used as ordinary optical elements G02B5/32; producing stereoscopic or other three-dimensional effects G02B27/22; diffraction-grating systems G02B27/44; systems using moirÞ fringes G02B27/60; optical logic elements G02F3/00; stereo-photography G03B35/00, G03C9/00; analogue computers performing mathematical operations with the aid of optical elements G06E3/00; holographic digital storage G11C17/00)
      • PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; (phototypographic composing devices B41B; photosensitive materials or processes for photographic purposes G03C; electrophotography, sensitive layers or processes therefor G03G)
Classificazione geografica
Bibliografia
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[4]Pan FY, Burge J, Anderson D, et al., "Efficient testing of segmented aspherical mirrors by use of a reference plate and computer-generated holograms. II. Case study, error analysis, and experimental validation", APPLIED OPTICS 43 (28): 5313-5322 (2004)

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[11]Bertarelli C., Gallazzi, M. C., Stellacci F., Zerbi G., Stagira S., Nisoli M., De Silvestri S., “Ultrafast photoinduced ring-closure dynamics of a diarylethene polymer”, Chem. Phys Lett., 359, pp. 278-282, 2002.

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[14]Bianco A., Bertarelli C., Rabolt J. F., Zerbi G., "Diarylethenes with electro-active substituents: a theoretical study to understand the effect on the IR spectrum and a simple way to read optical memory in the mid-IR.", Chem. Mat., 17, 869-874, 2005.

[15]Molinari E., Zerbi G., Bortoletto F., Bertarelli C., Bianco A., Conconi P., Gallazzi M.C., Giro E., Mazzoleni R., Pernechele C., Zerbi F.M., “Photochromic polymers for erasable focal plane masks and re-writable volume phase holographic gratings”, Proceedings of San Diego SPIE 2001, Vol. #4485-72, 469-477.

[16]Bianco A., Bertarelli C., Gallazzi M.C, Zerbi G., Giro E., Molinari E., “Smart focal plane masks: rewritable photochromic films for astronomical multi object spectroscopy”, Astron. Nachr., 326 (5) 370–374, 2005.

[17]Bertarelli C., Gallazzi MC, Zerbi G., Bianco A., Molinari E., Giro E., “Diarylethenes in astrophysics: From Materials to Devices”, Mol. Cryst Liq. Cryst, 430, 187-192, 2005.
Parole Chiave
OLOGRAFIA, OTTICHE A FORMA COMPLESSA, FOTOCROMISMO, FILM OTTICI, MODULAZION DELL'INDICE DI RIFRAZIONE, STRUMENTAZIONE OTTICA

Polimeri fotocromici per lo sviluppo di innovative superfici di riferimento riscrivibili per interferometria

Politecnico di Milano
Abstract
Saranno prodotti materiali diariletenici con specifiche proprietà fotocromiche impiegabili come strati attivi in superfici di riferimento per interferometria. L’innovazione del progetto risiede nella possibilità di ottenere superfici di riferimento riscrivibili (ologrammi sintetici) grazie alla reversibilità del processo fotocromico; in questo modo sarà possibile eseguire misure interferometriche di superfici ottiche complesse utilizzando un unico dispositivo.
I materiali fotocromici saranno progettati in modo tale da migliorare le proprietà di contrasto, i valori di resa quantica e la modulazione di indice di rifrazione. A tale scopo ci si avvarrà dei lavori precedentemente svolti nell’ambito della collaborazione tra le due unità di ricerca coinvolte nel presente progetto. I materiali fotocromici che soddisferanno le proprietà attese saranno trasformati in film mediante tecniche da soluzione. Di tali film saranno determinati il contrasto in funzione della lunghezza d’onda, la qualità ottica della superficie e la distorsione del fronte d’onda. Per le misure interferometriche sarà sviluppato un setup basandosi sulla strumentazione già disponibile (interferometro di Fizeau). Sarà altresì sviluppato un sistema di scrittura dei supporti fotocromici per la realizzazione delle superfici di riferimento che dovrà essere caratterizzato da alta risoluzione spaziale ed elevata ripetibilità. Come misura preliminare per dimostrare la funzionalità del sistema, saranno scritte >>>

Coordinatore Scientifico del Programma di Ricerca
Giuseppe Zerbi Politecnico di MILANO
Obiettivo del Programma di Ricerca
Lo sviluppo di telescopi con specchi dell’ordine delle decine di metri di diametro pone nuove sfide nella progettazione di strumentazione ottica nel campo astronomico.
La progettazione di tali strumentazioni potrebbe ricevere un impulso importante se diventasse possibile la realizzazione di ottiche non tradizionali con superfici a curvatura variabile o addirittura le cosiddette "free form optics". Se è però vero che la tecnologia attuale permette di lavorare materiali ottici con geometria anche molto complessa, non sempre è possibile un’adeguata misura della bontà della lavorazione. Di conseguenza, risulta di fondamentale importanza la realizzazione, e ancora di più la metrologia, di questo tipo di ottiche.

Gli obiettivi di questo progetto sono:
- progettare e sintetizzare nuovi materiali organici con predefinite e specifiche proprietà ottiche;
- impiegare questi materiali come film attivi per lo sviluppo di innovative superfici di riferimento riscrivibili in interferometria. Scopo finale del progetto è lo sviluppo di un sistema integrato di metrologia per superfici ottiche di forma complessa.

Per realizzare tali obiettivi, il progetto gode della partecipazione di due unità di ricerca con competenze complementari. Il gruppo di ricerca del Politecnico di Milano (UdR1) ha una specifica esperienza nella ricerca e sviluppo di materiali funzionali organici e nella loro trasformazione e caratterizzazione, mentre i >>>

Durata
24 mesi
Base di partenza scientifica nazionale o internazionale
Lo sviluppo delle tecnologie ottiche ha permesso negli ultimi tempi progressi in molti campi scientifici e tecnologici. Ad esempio l’astrofisica ha fatto progressi da gigante sfruttando l’enorme potere di raccolta di luce dei nuovi telescopi da terra e spaziali. Nelle tecnologie industriali la fotonica ha permesso di controllare i processi produttivi in modo efficiente ed ha permesso lo sviluppo di tecniche diagnostiche che permettono di avere informazioni sulle proprietà meccaniche, termiche, ottiche, in modo rapido e accurato.

Molti settori emergenti, quali il mercato della fotografia digitale, non avrebbero avuto una crescita esponenziale se non fossero state sviluppate tecniche di produzione efficienti ed economiche di lenti polimeriche di buona qualità. Ancora, il settore informatico non avrebbe conosciuto l’attuale diffusione se non fosse stato possibile scrivere circuiti integrati sempre più miniaturizzati, tecnica permessa soltanto attraverso lo sviluppo di lenti asferiche di qualità via via superiore.

Ogni progresso nella realizzazione di ottiche sempre più complesse è stato accompagnato da un progresso parallelo nel campo della metrologia ottica, ovvero di quelle tecniche di misura che permettono di controllare il processo di produzione delle ottiche stesse. Attualmente la frontiera nel campo della realizzazione di ottiche sempre più complesse è costituito dalle “ottiche a forma libera” (free-form optics). Queste ottiche sono >>>